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GTA 离子微粒吸附设备 GTA Thermal AMC Unit (TAU)

??在平板显示行业和半导体制造行业中,在对面板或者精密器件曝光、显影/涂布等处理过程中,对面板或者器件所处的工艺环境要求非常高,环境中的微粒杂质直接影响至加工工艺的良率,因此为面板或者器件提供一个洁净的恒温恒湿环境尤为重要。

??GTA离子微粒吸附设备是在进行曝光、显影/涂布等工艺前提供洁净空气,并保持空气的恒温恒湿状态,来提高工艺制程良率,减少工艺设备被有机杂质腐蚀。

应用领域

??主要用于面板厂、晶圆厂、封装测试厂的曝光机镜面防雾化, 去除吸入曝光机中的AMC污染物


适用工艺

  • 将空气送入离子吸附板进行特殊处理对酸、碱,进行有机过滤,捕捉空气中的微粒物质(AMC)
  • 处理后的洁净气体经冷热盘管进行温度以及湿度控制
  • 由风机将处理后的恒温恒湿的洁净空气通过高效滤网过滤粉尘后注入于风管中,提供曝光机、显影涂布机等设备使用


产品优势

  • 提供处理过的洁净空气,提落面板在蚀刻及显影等制程的优良率。
  • 通过控制洁净空气的湿度,防止曝光设备镜面雾化,延长曝光设备镜面组的使用年限。
  • 通过吸附空气中的离子微粒,有效防止化学污染物腐蚀设备内部组件。
  • 对空气进行杂质处理,可以爱护光罩的透光性,防止发生化学反应造成光罩的腐蚀。



联系方式
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