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Bcube系列 WC2000M、WC1000M手动槽式清洗机 Bcube Series WC2000M、WC1000M Manual Bench Wet Station
   在半导体制造工艺中,上一道工序所遗留的超微细颗粒污染物、金属残留、有机物残留物等,光阻掩膜或残留会导致芯片良率下降等问题,这需要通过清洗工艺来 解决。清洗一般采用化学和物理作用力相结合的方法实现,在清洗时既要有很好的腐蚀选择性,高效的去除超微细颗粒物及各种残留物的能力,又不能对晶片表面的 精致图形结构造成损伤。手动槽式清洗设备由于在设备产能、设备稳定性等方面的优势而广泛应用在微机电系统、半导体照明、功率半导体等领域。

应用领域

  微机电系统、半导体照明、功率半导体


适用工艺

  预清洗、去胶清洗、RCA清洗、扩散前/后清洗、外延前清洗等


产品优点

  • 自动配液及补液系统,冲洗槽电阻率实时监测。
  • 友好的人机交互界面,工艺参数实时显释辏
  • 工艺菜单配置丰富,编辑灵活。
  • 结构紧凑、占地面积小。
  • 搭载先进超声波、兆声波清洗模块,优化清洗工艺成效。
  • 良好的密合性有效保证了任务环境及操作人员的安都性。
  • 都自动灭火系统,排风系统防爆处理,提高设备安都性。
  • 搭载在线加热及控温系统,温度稳定性高。
  • 设备产能高。
  • 设备占地面积小。




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