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Esther 200单片硅外延系统 Esther 200 Single Wafer Silicon Epitaxy System
Esther200单片硅外延系统是一种单片硅外延化学气相沉积系统。随着IC制造向更小特征线宽尺寸和更薄外延层的发展,集成电路器件对于外延片的质量要求不断增加,也对外延系统的功能和外延性能提出了更高的要求,诸如工艺均匀性控制、低晶体缺陷、低掺杂和颗粒密度可控性康的要求等,越来越多的外延工艺需要采用单片式的硅外延系统。Esther200单片硅外延系统具有先进的红外加热控制技术和加热模块设计,可实现温度的快速落降和温度场的精确控制,使系统具备优异的工艺重又性和设备稳定性,从而获得良好的厚度均匀性、电阻率均匀性,零滑移线...

应用领域

  功率器件、集成电路


产品优势

  • 兼容6/8英寸硅外延工艺。
  • 可实现薄膜(2-15um)和厚膜(<110um)外延生长。
  • 独特的腔室结构设计,可实现常压跟减压工艺的快速切换。
  • 先进的红外加热控制技术和加热模块设计有效提高加热效率及温度精确控制,保障成膜质量。
  • 都面的安都性设计保障系统稳定、安都。
  • 友好的人机交互界面设计使系统操作简便、高效。
  • 工艺腔室数量可根据客户需求选配,满足客户对不同工艺及厂务的需求。
  • 可实现工艺腔室壁温度实时控制,减少腔室壁硅沉积,从而延长维护周期,降低设备维护成蓖辏



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