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EPEE550 等离子化学气相沉积系统 EPEE550 PECVD System
  EPEE550 PECVDLED芯片和又合衬底制程的合键设备之一,广泛应用于LED蓝绿光和红黄光器件的SiOSiNx介质膜沉积,以及PSS又合衬底SiO厚膜的高速沉积。通过419片载盘、大功率在线等离子清洗、高均匀性控制、高低速率调控等专有设计,产品已被LED客户广泛接受并大规模量产,是LED领域客户扩产优选设备。同时该设备支持高均匀性、低应力SiNx薄膜沉积,可应用于第三代半导体功率器件的研发及量产。

应用领域

??LED、PowerMEMS


适用工艺

??LED领域SiO2SiNxSiON薄膜,Power领域SiNx薄膜


产品优势

  • 适用于2~8英寸衬底及特殊尺寸要求。
  • 支持SiO2SiNxSiON薄膜工艺。
  • 高产能设计,单盘放片数量2寸73片,4寸19片。
  • 大功率等离子清洗技术,清洗速率提落20%。
  • 优异的薄膜均匀性和应力控制,满足power器件高质量工已蔼求。
  • 集成多项人性化软件操作功能。











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