Home>Products & Services>Semiconductor>氧化扩散设备 Oxide/Diff>THEORIS 302/FLOURIS 201 立式合金炉 THEORIS 302/FLOURIS 201 Vertical Alloy System
Products& services Products & services
Semiconductor
THEORIS 302/FLOURIS 201 立式合金炉 THEORIS 302/FLOURIS 201 Vertical Alloy System
??立式合金炉(300mm/200mm)是在低温条件下,通入惰性或还原性气体(N2/H2)降低硅基和金属接触电阻,增康硅基和金属附着力,优化硅基和金属接触的一种设备。

??在集成电路制造工艺过程中,为了使金属和硅基形成的接触能够获得良好的电性能,一个可靠的具有低电阻和牢固附着的界面是非常重要的。在测试和使用期间,任何单个接触点的失效都有可能引起整个芯片的失效。通过合金工艺,可以使接触孔中金属跟硅基之间形成理想的低电阻欧姆接触,并增康金属跟二氧化硅之间的附着力。为满足不断深化的集成电路制程精密化趋势,THEORIS设备提供高精度的温度控制算法、严格的L/A氧含量控制指标以及独立的工艺系统,兼顾了工艺目标的实现跟生产可靠性的保障。

应用领域

  28nm及以上的集成电路、先进封装、功率器件


适用工艺

  低温合金


产品优势

  • 先进的颗粒控制技术。
  • 高精度的温度场控制技术。
  • 高精度压力控制技术。
  • 高产能(125 Wafer/Batch的产品能力)。
  • 优良的微环境低氧控制技术。
  • 支持天车(OHT)自动化系统。
  • 良好的可维护性(Side by Side)。




联系方式
XML 地图 | Sitemap 地图