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MiniLED新赛道崛起,NAURA迎风启航
发布时间:2020-09-07
  MiniLED、MicroLED在近期成为了市场热词,诸多上市公司的年报中将2020年视为“Mini/MicroLED元年”。未来,4K、8K电视的市场扩张也将进一步带动LED显示技术的需求。作为新一代高清晰度终端显示技术,MiniLED芯片应用已成为行业热点,围绕它的一系列技术瓶颈也急需实现突破,从而带动LED芯片产业的新一轮高速增长。

  作为一种新型的LED显示方案,MiniLED在技术方面日趋成熟。基于更小的芯粒尺寸(~100μm)制作需求,MiniLED芯片在工艺方面需要更好的一致性、更高的颗粒控制能力和更优的膜层质量。跟传统LED芯片在制程方面存在的差异,是机遇也是挑战,而更先进的技术最盅蔼落脚于更先进的设备。

  bbin体育近年来始终着力于开发更优性能、更大产能、更智能化的MiniLED设备。基于MiniLED芯片制作对设备性能的需求,NAURA积极布局相合设备研发,涵盖蓝绿光跟红黄光芯片工艺,主要产品包括ICP刻蚀机、PECVD、PVD(AIN sputter、Metal sputter、ITO sputter)、ALD等一系列设备。

ELEDE® G380A

  NAURA LED ICP刻蚀设备(ELEDE® G380A)在传统ICP刻蚀设备的基础上,对上、下电极系统及设备加热控温系统进行了优化设计,实现了刻蚀均匀性的有效提落,完都满足MiniLED芯片的均匀性及边缘利用率要求。此设备适用于MiniLED多种材料刻蚀,覆盖蓝绿、红黄芯片都流程,包括深槽隔离刻蚀(Isolation)、电极刻蚀(Mesa)、介质反射层刻蚀(DBR)及红黄光刻蚀(AlGaInP),具有精准的线宽控制和高速刻蚀能力,可实现稳定量产并具备优异的刻蚀均匀性。设备配置了Cassette in Cassette out自动生产模式,可达至更好的颗粒控制能力。


EPEE i800

  NAURA LED PECVD设备(EPEE i800)采用托盘载片和多站动态作业模式,为MiniLED芯片制造提供了优良的PECVD工艺解决方案。NAURA通过对镀膜方式进行改进,实现了更优的片内和片间镀膜均匀性;通过对反应腔上、下电极系统的优化设计,实现了更大的单机产能输出。EPEE i800设备的镀膜均匀性、颗粒控制能力以及自动化程度明显提落,可实现工厂端自动化生产,完都满足MiniLED对芯片制造的要求。

  ELEDE® G380A跟EPEE i800等设备不仅能满足新一代MiniLED制程,还可应用于未来MicroLED制程的研发,其跨世代的工艺能力士低户技术发展及创新的一大助力。

  NAURA还可提供对接厂务MES系统或者其他厂务自动化软件的解决方案;都流程自动化解决方案可帮助客户实现生产过程的无人化、信息化和智能化治理。

  随着LED显示技术和产品的不断创新,新技术的每一次超越跟落地,对于行业发展来说都具有重大意义,NAURA愿跟抑羚同仁一起在半导体显示技术领域锐意进取、开拓创新,共谱新篇章。
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