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Saqua系列 SC3000A 12英寸堆叠式单片清洗机 Saqua Series SC3000A 12 Inch Stacked Chamber Single Wafer Cleaning System
  在Fab厂内清洗机的footprintthroughput的比例会导致晶圆出厂量低和制造成本高的结果。这对清洗机制造者提出了减少设备的footprint和提高throughput的要求。对未来技术发展而言,会出现对堆叠式清洗机内部微环境控制的进一埠拌求。这些需求对清洗机FFUexhaust的优化设计提出进一步的挑战。

  Saqua系列 12英寸堆叠式单片清洗机采用堆叠式的技术,包括堆叠式的三层工艺腔室、多层晶圆传输系统、各工艺腔室独立的工艺体系等。

应用领域

  90-28nm集成电路


适用工艺

  前道工艺:成膜前/后清洗、栅极清洗、硅化物清洗、标准RCA清洗

  后道工艺:通孔刻蚀后的清洗、沟槽刻蚀后的清洗、衬垫去除后的清洗、钝化层清洗


产品优势

  • 高产能。
  • 占地面积小。
  • 独立的模块化设计。
  • 人性化操作界面,操作简单。
  • 运动轨迹上速度、流量可实时控制的喷淋单元。
  • 更细致的工艺过程动态显示系统。
  • 超稀释化学药液在线配制(1:3000)系统。
  • 腐蚀非均匀性<1%
  • 药液配比实时控制技术。
  • 颗粒去除效率>99%




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