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半导体装备 Semiconductor
iTops i233溅射系统iTops i233 Sputter System
  ITO透明导电薄膜被广泛用作LED芯片中的电流扩展层,实现芯片的均匀发光以及高出光效率。Sputter ITO相比于蒸镀ITO,具有高沉积速率、高致密度以及高折射率的优势,已成为业内的主流工艺。iTops i233 ITO溅射系统采用独特的RF+DC溅射工艺,能够制备出具有优异导电性能和高可见光透过性能的ITO薄膜,而且溅射过程中对底部GaN发光基底造成的损伤小,可以有效提高LED芯片的光电性能。iTops i233 ITO溅射设备结构简单,操作方便,运行稳定,工艺性能好,跟国际竞争对手相比具有很高的性价比,市场份额持续增长。

应用领域:

半导体照明LED


适用工艺:

ITO电流扩展层


产品优势:

  • 可制备优异导电性和高可见光透过性的ITO薄膜。
  • 独特的工艺技术能够减小对衬底的损伤。
  • 高的本底真空度和工艺起始真空度能有效提落LED芯片光电性能。
  • 优异的膜厚均匀性,片内、片间、批间均匀性<2%
  • 先进的等离子溅射源,能有效提高等离子体离化率及靶材利用率。
  • 设备结构简单,操作简便,维护方便。
  • 设备产能高,价格低,工艺性能好,性价比高。自主研发的软件操作系统,具有人机互动性高,操作简便,自动化控制,超高的系统稳定性,完善的互锁机制等特点。
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