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THEORIS 302/FLOURIS 201 立式退火炉 THEORIS 302/FLOURIS 201 Vertical Anneal Furnace

??立式退火炉(300mm/200mm)是在中低温条件下,通入惰性气体(N2),排除硅片界面处晶格缺陷和晶格损伤,优化硅片界面质量的一种设备。

??在集成电路制造工艺过程中,硅片界面处存在的电荷堆积会影响至产品的电学特性跟良率。通过退火工艺,能够良好的实现改善晶格结构的工艺目的。为满足不断发展的集成电路制程微细化需求,THEORIS设备提供高精度的温度控制算法、严格的金属控制指标以及稳定的传输控制系统等解决方案,兼顾了工艺目标的实现跟生产可靠性的保障。

应用领域

??28nm及以上集成电路、先进封装、功率器件


适用工艺

??高,中,低温退火


产品优势

  • 先进的颗粒控制技术。
  • 有效的金属污染控制水平。
  • 高精度的温度场控制技术。
  • 高精度压力控制技术。
  • 高产能(125 Wafer/Batch的产品能力)。
  • 支持天车(OHT)自动化系统。
  • 良好的可维护性(Side by Side)。




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