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HORIS P8571A管式PECVD设备 HORIS P8571A Tube type PECVD

??在设备同等占地面积下提高单台设备产能,优化工艺成效,一直是晶硅电池片生产线厂商对管式PECVD设备的迫切需求。HORIS P8571A管式PECVD通过对进气方式、石墨舟、工艺反应腔室的独特设计,保证工艺性能优异的基础上提高单管的装片量,以及通过提高炉体的快速回温能力、工艺腔室真空抽速能力来压缩工艺时间,同时,提高单台设备的工艺管数量。HORIS P8571A管式PECVD设备通过上述性能的提落,单台满足160MW以上的产能和工艺需求。

应用领域

光伏PV


适用工艺

淀积SiNxSiOxSiONxAlOx单层或多层薄膜工艺


产品优势

  • 单台产能满足160MW以上晶硅电池产线。
  • 独特的进气方式和分布,保证工艺成膜均匀性和重又性。
  • 专业的炉体和加热系统设计,实现快速回温,缩短工艺时间,改善薄膜均匀性。
  • 快速抽真空能力,缩短工艺时间,扩大工艺窗口,延长PM间隔时间。
  • 工艺灵活,可实现SiNx、SiOx、SiONx、AlOx等薄膜的单层/多层薄膜工艺。
  • 具备快速镀膜工艺,提高生产效率。
  • 跟传统PECVD相比,产能增大50%,平均能耗更低,性价比更高。
  • 满足高效电池工艺需求,例如PERC电池工艺、PID free。
  • 成熟的舟自动调度系统,并可跟多种倒片系统匹配,自动运行。
  • 软件符合semi标准,功能齐都、界面友好,具备MES功能(可选项)
  • 具有多种安都报警爱护、安都互锁、历史记录、操作日志查询功能。






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