首页>产品&服务>半导体装备 Semiconductor>化学气相沉积设备 CVD>HORIS L6371 多功能 LPCVD HORIS L6371 Multifunction LPCVD
产品&服务 Products & services
半导体装备 Semiconductor
HORIS L6371 多功能 LPCVD HORIS L6371 Multifunction LPCVD



应用领域

集成电路 IC、微机电系统 MEMS、功率器件 POWER


适用工艺:

二氧化硅(LTOTEOS)、氮化硅(Si3N4(含低应力))、多晶硅(LP-POLY)、磷硅玻璃(BSG)、硼磷硅玻璃(BPSG)、掺杂多晶硅、石墨烯、碳纳米管等多种薄膜



产品优势:

  • 独特的进气方式和分布,保证工艺成膜均匀性和重又性。
  • 成熟的工艺控制满足客户对TEOS低压热解法、常规氮化硅和低应力氮化硅、不同成膜速率多晶硅等不同LPCVD工艺高端需求。
  • 冷阱、粉尘过滤等特殊设计,提高设备腔室和器件洁净度,易于维护,PM间隔长。
  • 良好的颗粒控制技术。
  • 特殊炉体设计,低能耗,高精度温度场控制,具有良好的温度重又性。
  • 模块化部件设计,便于在洁净室内安装跟启动生产。
  • 软件符合semi标准,功能齐都、界面友好,具备MES功能(可选项)。
  • 具有多种安都报警爱护、安都互锁、历史记录、操作日志查询功能。
  • 1976年研发 开发国内第一台LPCVD设备,为国内设备跟工艺最成熟LPCVD设备供应商,拥有几十家客户胜利应用案例。







联系方式
XML 地图 | Sitemap 地图